一、发明或实用新型专利申请:
应提供下列内容的技术交底书:
1、专利名称;
2、本发明所属的技术领域;
3、与本发明相比,接近的现有技术是什么,并描述现有技术存在的缺陷;
4、针对现有技术的缺陷,提出本发明要解决的技术问题,即本发明的目的;
5、结合附图详细描述本发明的技术方案,以及由此带来的有益效果。所述附图,应该是一幅或者多幅能够详细表述本发明技术方案的图,例如电路框图,电路图,系统结构示意图,产品结构示意图,某部件的局部放大图等。
二、外观设计专利申请:
应提交样品或模型拍照、绘图,也可直接提交符合要求的六面视图的照片或图片。
三、专利授权所需时间:
1、发明,初审时间为十八个月左右,需在三年内任何时间提出实质审查,但早提实审者有利于早授权。一般2~3年授权。
2、实用新型,审查时间为六个月左右,一般6~8个月授权。
3、中国外观设计,审查时间为四个月左右,一般5~6个月授权。
注:专利经审查核准后,需缴纳登记费、年费后发证书,于专利公报公告,自公告之日起给予专利权生效。
中国专利申请资料
厦门公司注册/年检相关信息
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4月24日 刷新
4月9日 刷新
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2023-10-10
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